三大产品线全力升级 东方晶源引领国内电子束量测检测发展
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三大产品线全力升级 东方晶源引领国内电子束量测检测发展

2024-07-03 新闻中心

  电子束量检测是半导体量检验测试领域的主要技术类型之一,在半导体制程不断微缩,电子束量检测发挥着逐渐重要的作用。东方晶源已先后成功推出多款电子束量检测设备,占据电子束量测检测三大主要细分领域。

  电子束量检测是半导体量检验测试领域的主要技术类型之一,在半导体制程不断微缩,光学检测对先进工艺图像识别的灵敏度逐渐减弱的情况下,发挥着逐渐重要的作用。电子束量检测设备对于检测的精度、可适用性、稳定性、吞吐量等要求很高,其研发和设计很具有技术挑战性。

  作为布局该领域最早的国内企业之一,东方晶源已先后成功推出电子束缺陷检验测试设备EBI,关键尺寸量测设备CD-SEM(12英寸和6&8英寸),电子束缺陷复检设备DR-SEM,占据电子束量测检测三大主要细致划分领域,产品多样化和产品成熟度走在前列。同时,经过持续的迭代研发,三大产品线全力升级、性能指标逐步提升,引领国内电子束量测检测产业高速发展。

  东方晶源早在2019年就成功研发并推出的SEpA-i505是国内首台电子束缺陷检验测试设备,可提供完整的纳米级缺陷检验测试和分析解决方案,在2021年便进入28nm产线全自动量产。经过数年研发迭代,新一代机型SEpA-i525在检验测试能力和应用场景方面得到进一步拓展。

  在应用场景方面,东方晶源的EBI设备也从逻辑Fab领域延伸至存储Fab,可以为客户解决更多的制程缺陷问

  此外,东方晶源EBI设备基于DNA缺陷检验测试引擎,采用图前台与运算后台低耦合,支持同步online/offline inspection。集成多种先进缺陷检验测试算法(D2D、C2C等),能够完全满足用户不同应用需求,有效提升Capture Rate,降低Nuisance Rate。采用的自动缺陷分类(ADC)引擎,其Model-Based ADC模块基于深度学习、自动特征选取、融合置信度的聚类算法,可以有效提升自动缺陷分类的Purity和Accuracy;Rule-Based ADC模块则保留了人工经验的灵活性,在小样本的场景下能够迅速创建。CD-SEM:面向6/8/12英寸产线全面布局

  CD-SEM(关键尺寸量测设备)主要是通过对于关键尺寸的采样测量,实现对IC制作的完整过程中,光刻工艺后所形成图形尺寸进行监控,以确保良率。东方晶源的CD-SEM分为12英寸和6&8英寸兼容两个产品系列,均已进入用户产线,可支持Line/Space、Hole/Elliptic、LER/LWR等多种量测场景,满足多种成像需求。

  12英寸CD-SEM新一代机型SEpA-c430经过2年的迭代,在量测性能和速度上实现全方面提升,目前也在多个客户现场完成验证。

  ;新推出的晶圆表面电荷补偿功能,能大大的提升光刻胶量测的能力。新机型还增加了自动校准功能,可确保较高的量测一致性,为产品的大规模量产做好了准备。

  除12英寸产品外,东方晶源6&8英寸CD-SEM产品相较国际大厂新设备的交期长、价格高具有更高的性价优势。面向第三代半导体市场推出的SEpA-c310s,不仅实现了6&8 英寸兼容,同时还可兼容不一样的材质的晶圆(例如GaN/SiC/GaAs),兼容不同厚度的晶圆(例如350um,1100um)。该产品已在多个头部客户实现了量产验证。值得一提的是,2022年底东方晶源ODAS LAMP产品已正式对外发布。ODAS LAMP全称为Offline Data Analysis System, Large Scale Automatic Measurement Purpose产品,中文名称为大规模CD量测离线数据处理系统。

  ODAS LAMP作为CD-SEM量测设备的配套工具,目的是方便CD-SEM用户利用设计版图离线创建和修改CD-SEM recipe,并提供对CD-SEM量测结果的review功能,也可以在CD-SEM图像上进行离线再量测,提升机台利用率。

  2023年东方晶源推出首款SEpA-r600,目前已经出机到几个头部客户进行产线验证。

  在辅助光学系统复检OM的研发方案选择中,东方晶源独立开发出一套全新光学窗口成像系统。借助于这套系统,目前已完成对unpatterned wafer的光学复检功能的开发,实现了auto bare wafer review的功能,实现用户对70nm左右defect的复检需求。也就是说,

  另外,DR-SEM的高电压电子枪能够很好的满足客户对浅层缺陷的分析,同时对较深的孔底部也能够有明显的信号。根据针对客户的真实需求深度拆解,这款DR-SEM设备还引入了全彩OM,能实现色差调整,以满足多种film内部color defect的检测,为客户提供更多的表征手段。未来,东方晶源新一代DR-SEM设备将结合下一代自研EOS,搭配深紫外DUV辅助光学检测系统,预期可满足更先进制程全流程的defect复检需求。

  从2021年6月EBI设备通过产线验证进入全自动量产以来,东方晶源加快研发步伐,先后又成功推出12英寸CD-SEM、6&8英寸兼容CD-SEM、DR-SEM多款产品,并持续通过迭代升级提升设备性能和效率,解决了国产半导体发展中的关键难题,领跑国内相关领域发展。未来,东方晶源将围绕集成电路良率管理继续深耕,为产业带来更多的硬件和软件产品,推动行业发展和进步。


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